时间: 2025-07-04 08:39:58 来源: 59q.dezhouruihuan.com 作者: 娱乐
20世纪80年代末至90年代初 ,格罗在纽约和佛蒙特州这些看似与。锗硅展前半导体 。史和使用革新毫无相关的格罗当地 ,一场悄然无声的锗硅展前半导体革新正悄然鼓起。即就是史和使用最痴迷于半导体的发烧友,也或许未曾留意到这场革新 ,格罗究竟其时摩尔定律以及硅(Si)CMOS。锗硅展前晶体管。史和使用的格罗尺度缩小占有了一切新闻头条。
彼时,锗硅展前一群 。史和使用工程师。格罗默默地投身于立异浪潮,锗硅展前将锗(Ge)引进硅双极结型晶体管中 ,史和使用极大地改善了器材特性,为。射频 。(。RF。)和高速 。模仿 。晶体管完成卓越功能带来了期望 。他们选用突变锗锗硅(SiGe)基区晶体管的开创性作业 ,为8英寸晶圆上锗硅BiCMOS技能在各类射频/无线及毫米波通讯使用范畴的商业成功奠定了根底 。这种成功和广泛使用,只要少量半导体技能可以与之比美,如体硅CMOS 、砷化镓(GaAs)和射频绝缘体上硅(RF SOI) 。
曩昔15年里,格罗方德在SOI技能立异方面一向处于前沿位置 。但是 ,在锗硅BiCMOS技能进步的征途中,格罗方德(前身为IBM微电子)的技能开发人员和工程师们肩负重任 ,传承任务,至今已逾四十载。让我们一起追溯锗硅的前史 ,重温这段前辈们称之为“持之以恒的故事”,并展望其未来开展。
格罗方德锗硅技能史:
部分之和大于全体 。
“并非普通的初步”。
任何系列的榜首部分往往都会给人留下深刻印象,格罗方德首款成功商业化的锗硅技能就是如此。十多年前,0.35微米锗硅BiCMOS技能[2]——SiGe5PAe的面世,为锗硅进入 。Wi-Fi。功率放大器。(PA)范畴铺平了路途,其时 。智能手机。年代正敞开其全球控制的征途 。这项技能助力功率放大器设计师以最低本钱完成了最佳的技能功能指标(FoM)组合,如高输出功率、高线性度和高效率 。
跟着Wi-Fi需求的增加以及新Wi-Fi规范对功能提出了更为苛刻的要求,格罗方德在根底平台上继续改善,推出了多种版别的SiGe5PAXe和SiGe5PA4,包含高电阻率衬底选项,完成了集成射频开关和低噪声